Quang phổ phát xạ phân tích dư lượng và hàm lượng kim loại

Quang phổ phát xạ (OES) là một kỹ thuật phân tích được sử dụng rộng rãi để xác định đồng thời phân tích các nguyên tố trong mẫu kim loại

Với dải phổ rất rộng từ 130 lên đến 800nm công nghệ OES có thể phân tích các kim loại bao gồm: Sản phẩm trong công nghiệp luyện kim, gia công  đồng sắt, nhôm, vơi đa dạng hình dáng và kích thước với độ chính xác siêu cao

Cấu tạo hệ thống quang phổ phát xạ phân tích kim loại 

Hệ thống quang phổ phát xạ phân tích kim được cấu tạo từ 3 bộ phận chính:

• Bộ nguồn phát xạ: Bộ nguồn với công dụng làm kích thích phân tử làm cho chúng phát ra các ánh sáng, mỗi loại sẽ có những đặc trung riêng gọi là bước sóng từ đó xác định chính xác nguyên tố phân tích. Nguồn điện cao áp được sử dụng cho bộ phát xạ thông qua điện cực bắn mẫu.

• Hệ thống quang học: là hệ thống thu ánh sáng sau quá trình hóa hơi mẫu được gọi là plasma sẽ được truyền vào máy quang phổ. Bằng cách sử dụng cách tử nhiễu xạ, ánh sáng thu được sẽ bị phân tách thành các bước sóng riêng đặc trưng cho từng nguyên tố và chúng sẽ được thu nhận bởi các đầu thu tương ứng.
• Hệ thống xử lý dữ liệu: Tín hiệu sẽ được thu tại đầu dò và chuyển vào máy tính để sử lý cụ thể cho từng nguyên tố và thành phần hàm lượng của chúng dựa vào cường độ tín hiệu thu được trong quá trình phân tích.

Ưu điểm của quang phổ phát xạ phân tích kim loại

So với các kỹ thuật phân tích khác thì phương pháp quang phổ phát xạ phân tích kim loại có ưu điểm là phân tích nhanh và dễ thao tác, có khả năng phân tích nhiều loại nguyên tố và nồng độ trong nhiều loại vật liệu kim loại khác nhau, bao gồm các nguyên tố quan trọng như cacbon, lưu huỳnh, phốt pho, bo và nitơ. OES rất chính xác khi đo các nguyên tố vi lượng và hàm lượng thấp, và giá thành khá thấp so với các kỹ thuật khác.

Ngoài ra phương pháp phân tích kim loại OES còn khá khả năng phân tích hàm lượng vết hơn thế nữa hiện nay đây cũng là phương pháp duy nhất có thể phân tích cacbon và nitơ mà không cần đưa mẫu đến các phòng thí nghiệm.

Hệ thống quang phổ phát xạ phân tích kim loại tại Beta Technology

HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ PLASMA ICP-OES – PRODIGYPLUS

Hệ thống quang phổ phát xạ plasma ghép nối cặp cảm ứng ICP-OES model ProdigyPlus

• PHÂN TÍCH ĐỒNG THỜI các nguyên tố vi lượng trong nước hoặc vật liệu hữu cơ tự động.
• Đầu dò CMOS định dạng lớn, độ phân giải cao, tốc độ đọc nhanh, dải tuyến tính rộng
• Chụp ảnh toàn khung hình, ghi lại toàn bộ phổ ICP trong một lần đọc
• Dải bước sóng rộng: 165 – 1.100 nm (có thể chọn dải 134 – 1100 nm cho phân tích Halogen)
• Hệ quang kiểu Echelle hiệu năng cao, tiêu cự: 800 mm, cho ánh sáng lạc thấp nhất

>> Xem chi tiết thiết bị

HỆ THỐNG QUANG PHỔ PHÁT XẠ PLASMA ICP-OES – PRODIGY7

Hệ thống quang phổ phát xạ plasma ghép nối cặp cảm ứng ICP-OES model Prodigy7:

• PHÂN TÍCH ĐỒNG THỜI các nguyên tố vi lượng trong nước hoặc vật liệu hữu cơ tự động.
• ĐẦU DÒ CMOS lớn, độ phân giải cao, tốc độ đọc nhanh, dải tuyến tính rộng
• Dải bước sóng rộng: 165 – 1.100 nm
• Hệ quang kiểu Echelle hiệu năng cao, tiêu cự:  500 mm, cho ánh sáng lạc thấp nhất, độ phân giải 0.007 nm @200nm

>> Xem chi tiết thiết bị

Hy vọng qua các thông tin trên đã cung cấp cho Quý bạn đọc các thông tin hữu ích về hệ thống quang phổ phát xạ hồ quang trong phân tích kim loại.

Hãy liên hệ chúng tôi để được tư vấn cụ thể.   

CÔNG TY TNHH BETA TECHNOLOGY Số nhà 17, Đường số 12, Khu dân cư Cityland Park Hills, Phường 10, Quận Gò Vấp, TP Hồ Chí Minh 0286 2727 095 – 0286 2761 581 0903 042 747 – Mr. Trung sales@betatechco.com https://betatechco.com/ – https://thinghiemxangdau.vn/ – https://thietbihoanghiem.com/ Theo dõi các tin tức mới cập nhật thường xuyên của BETA tại các kênh sau: